बहुलक अवशोषण

सोखन भनेको आयन वा अणुहरूको अर्को चरणको सतहमा टाँस्नु हो। शोषण फिजिसोर्पशन र केमिसोर्पसन मार्फत हुन सक्छ।आयन र अणुहरूले बहुलक सतहहरू सहित धेरै प्रकारका सतहहरूमा अवशोषित गर्न सक्छन्।पोलिमर एक ठूलो अणु हो जुन सहसंयोजक बन्डहरू द्वारा एकसाथ बाँधिएको दोहोर्याउने सबयुनिटहरूबाट बनेको हुन्छ।बहुलक सतहहरूमा आयन र अणुहरूको अवशोषणले धेरै अनुप्रयोगहरूमा भूमिका खेल्छ: बायोमेडिकल, संरचनात्मक, र कोटिंग्स।

पोलिमरसतहहरू गैर-पोलिमर सतहहरूबाट भिन्न हुन्छन् किनभने सतहहरू बन्ने उपयुनिटहरू सहसंयोजक रूपमा एकअर्कासँग बाँधिएका हुन्छन्।गैर-पोलिमर सतहहरू आयनिक बन्डहरू, धातु बन्डहरू वा अन्तरआणविक बलहरू (IMFs) द्वारा बाँध्न सकिन्छ।दुई कम्पोनेन्ट प्रणालीमा, गैर-पोलिमर सतहहरू बन्छन् जब आत्म-अन्तर्क्रियाहरू तोड्न र गैर-स्व-अन्तरक्रियाहरू गठन गर्न ऊर्जाको सकारात्मक शुद्ध मात्रा आवश्यक हुन्छ।त्यसैले, मिश्रणको ऊर्जा सकारात्मक छ।ऊर्जाको यो मात्रा, इन्टरफेसियल तनाव द्वारा वर्णन गरिए अनुसार, सामग्रीको विभिन्न संयोजनहरूको लागि भिन्न हुन्छ।यद्यपि, पोलिमर सतहहरूसँग, सबयुनिटहरू सहसंयोजक रूपमा सँगै बाँधिएका हुन्छन् र ठोस सतहको बल्क चरणले सतह तनावलाई प्रत्यक्ष रूपमा मापन गर्न अनुमति दिँदैन।ठूला बहुलक अणुहरू बीचको अन्तरआणविक बलहरू गणना गर्न गाह्रो हुन्छ र गैर-पलिमर सतह आणविक अन्तरक्रियाहरू जत्तिकै सजिलै निर्धारण गर्न सकिँदैन।गैर-पोलिमर सतहहरूको तुलनामा सहसंयोजक रूपमा बाँडिएको उपयुनिटहरू फरक गुणहरू भएको सतह बनाउँछन्।पोलिमर सतहहरूका केही उदाहरणहरू समावेश छन्: पोलिभिनिल क्लोराइड (PVC), नायलॉन, पोलिथिलीन (PE), र polypropylene (PP)।पोलिमर सतहहरू विभिन्न प्रविधिहरू प्रयोग गरेर विश्लेषण गरिएको छ, जसमा: स्क्यानिङ इलेक्ट्रोन माइक्रोस्कोपी, स्क्यानिङ टनेलिङ माइक्रोस्कोपी, र इन्फ्रारेड स्पेक्ट्रोस्कोपी।

बिभिन्न पोलिमर सतहहरूको मोनोमरहरूमा फरक साइड चेनहरू हुन्छन् जुन शोषण वा adsorbates को पृथक्करणको कारण चार्ज हुन सक्छ।उदाहरणका लागि, पोलिस्टीरिन सल्फोनेटमा नकारात्मक रूपमा चार्ज गरिएको साइड चेनहरू समावेश गर्ने मोनोमरहरू छन् जसले सकारात्मक रूपमा चार्ज गरिएको एशोर्बेटहरूलाई सोख्न सक्छ।Polystyrene sulfonate नकारात्मक चार्ज भन्दा बढी सकारात्मक चार्ज adsorbate सोख्नेछ।यसको विपरित, पोलिमरका लागि सकारात्मक रूपमा चार्ज गरिएको साइड चेनहरू समावेश गर्दछ, जस्तै पॉली (डायलील्डिमेथिलामोनियम क्लोराइड), नकारात्मक रूपमा चार्ज गरिएको एशोर्बेटहरू कडा रूपमा आकर्षित हुनेछन्।

संरचनात्मक

उन्नत बहुलक कम्पोजिट:उन्नत पोलिमर कम्पोजिटहरू पुराना संरचनाहरूको सुदृढीकरण र पुनर्वासमा प्रयोग गरिन्छ।यी उन्नत कम्पोजिटहरू प्रिप्रेग, राल, इन्फ्युजन, फिलामेन्ट वाइन्डिङ र पल्ट्रसन सहित धेरै फरक विधिहरू प्रयोग गरेर बनाउन सकिन्छ।उन्नत पोलिमर कम्पोजिटहरू धेरै हवाइजहाज संरचनाहरूमा प्रयोग गरिन्छ र तिनीहरूको सबैभन्दा ठूलो बजार एयरोस्पेस र रक्षामा छ।

फाइबर प्रबलित पोलिमर:फाइबर-प्रबलित पोलिमरहरू (FRP) सामान्यतया सिभिल इन्जिनियरहरूले तिनीहरूको संरचनाहरूमा प्रयोग गर्छन्।FRPs ले अक्षीय तनावमा रैखिक-लोचक रूपमा प्रतिक्रिया दिन्छ, तिनीहरूलाई लोड राख्नको लागि उत्कृष्ट सामग्री बनाउँछ।FRP हरू सामान्यतया ल्यामिनेट ढाँचामा हुन्छन् जसमा प्रत्येक लामिनामा एक दिशात्मक फाइबरहरू हुन्छन्, सामान्यतया कार्बन वा गिलास, हल्का पोलिमर म्याट्रिक्स सामग्रीको तह भित्र इम्बेड गरिएको हुन्छ।FRPs को वातावरणीय जोखिम र ठूलो स्थायित्व विरुद्ध ठूलो प्रतिरोध छ।

Polytetrafluoroethylene:Polytetrafluoroethylene (PTFE) नन-स्टिक कोटिंग्स, सौन्दर्य उत्पादनहरू, र स्नेहकहरू सहित धेरै अनुप्रयोगहरूमा प्रयोग हुने बहुलक हो।PTFE कार्बन र फ्लोरिनबाट बनेको हाइड्रोफोबिक अणु हो।कार्बन-फ्लोरिन बन्डले PTFE लाई कम घर्षण सामग्री, उच्च तापक्रम वातावरणमा अनुकूल र तनाव क्र्याक गर्न प्रतिरोधी बनाउँछ।यी गुणहरूले PTFE गैर-प्रतिक्रियाशील हुन र अनुप्रयोगहरूको एक विस्तृत सरणीमा प्रयोग गर्न निम्त्याउँछ।

झरझरा मिडियामा पोलिमर अवशोषण:पोरस मिडियामा पोलिमर रिटेन्सनका दुई प्रमुख कारणहरू शारीरिक शोषण र मेकानिकल इन्ट्र्यापमेन्ट हुन्।पोलिमर ईओआर अपरेशनको सफलताको लागि जलाशयमा कम पोलिमर अवधारण आवश्यक छ।